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否認良率不足 20%,三星聲明:3nm 工藝性能和產(chǎn)量已步入正軌

2024/7/10 15:25:44 來源:IT之家 作者:故淵 責(zé)編:故淵

IT之家 7 月 10 日消息,三星公司昨日(7 月 9 日)發(fā)布新聞稿,稱 3nm 工藝良率和性能穩(wěn)定,整個工藝項目正按計劃推進。

IT之家 6 月援引韓媒報道,三星電子的 Exynos 2500 芯片目前良率仍略低于 20%,未來能否用于 Galaxy S25 系列手機尚不明朗。

三星在最新聲明中否認了外界傳聞,表示:

三星于 2022 年全球首次量產(chǎn) 3nm GAA 工藝之后,第二代 3nm 工藝性能穩(wěn)定,且產(chǎn)量已步入正軌。

三星在新聞稿中表示積極和設(shè)計解決方案合作伙伴(DSP)合作,為原型生產(chǎn)提供多項目晶圓(MPW)服務(wù)。

三星電子今年的 MPW 服務(wù)總數(shù)為 32 個,涵蓋生產(chǎn)高性能功率半導(dǎo)體的 4 納米工藝到 BCD 130 納米工藝,與去年相比增加了約 10%,到 2025 年將增加到 35 個。

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