IT之家 10 月 2 日消息，康寧公司今天發(fā)布了新一代 Extreme ULE 玻璃材料，康寧將于 9 月 30 日至 10 月 3 日在加州蒙特雷舉行的 SPIE 光掩模技術(shù) + 極紫外光刻會(huì)議上展示這種玻璃和其他半導(dǎo)體材料。

據(jù)介紹，這種新玻璃材料可幫助芯片制造商改進(jìn)芯片設(shè)計(jì)的模板“光掩模”，可承受最高強(qiáng)度的極紫外光（EUV）光刻，具有接近 0 的膨脹特性，可適用于 EUV 光掩模和光刻鏡，對(duì)于大規(guī)模生產(chǎn)最先進(jìn)、最具成本效益的微芯片至關(guān)重要。

IT之家注：光掩模是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版，可在透明玻璃板表面的遮光膜上蝕刻加工非常微細(xì)的電路圖案，從而利用光刻蝕技術(shù)將圖案復(fù)刻到晶圓上。

康寧表示，EUV 光刻需要制造商使用最先進(jìn)的光掩模來完成圖案化和印刷過程，而這個(gè)過程需要極端的熱穩(wěn)定性和均勻的玻璃材料，以確保實(shí)現(xiàn)一致的制造性能。

康寧高級(jí)光學(xué)副總裁兼總經(jīng)理 Claude Echahamian 表示，“Extreme ULE 玻璃可實(shí)現(xiàn)更高功率的 EUV 制造以及更高的良率，擴(kuò)大康寧在持續(xù)追求摩爾定律方面的關(guān)鍵作用。”

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