IT之家 11 月 1 日消息，據(jù)美國商務(wù)部當(dāng)?shù)貢r間昨日新聞稿，該部門與美國《CHIPS》法案美國國家半導(dǎo)體技術(shù)中心 NSTC 項(xiàng)目運(yùn)營商 Natcast 宣布在紐約州立大學(xué)奧爾巴尼納米技術(shù)中心建設(shè)首個《CHIPS》法案旗艦研發(fā)站點(diǎn)。
該站點(diǎn)名為“EUV 加速器”，重點(diǎn)推進(jìn)最先進(jìn)的 EUV 光刻技術(shù)以及依賴于該技術(shù)的研發(fā)工作，預(yù)計(jì)將獲得 8.25 億美元（IT之家備注：當(dāng)前約 58.75 億元人民幣）的美國聯(lián)邦投資支持。
“EUV 加速器”站點(diǎn)將于 2025 年開始運(yùn)營，預(yù)計(jì)同年引入 0.33NA EUV 光刻機(jī)、2026 年引入 High NA EUV 光刻機(jī)。這一站點(diǎn)將召集并促進(jìn)與產(chǎn)業(yè)界、學(xué)術(shù)界和政府合作伙伴的合作，支持提供、培養(yǎng)和發(fā)展有才華的員工隊(duì)伍的計(jì)劃，推動半導(dǎo)體推進(jìn)技術(shù)創(chuàng)新。
除這一 EUV 光刻站點(diǎn)外，美國還計(jì)劃建設(shè)原型制造和先進(jìn)封裝制造領(lǐng)域的研發(fā)設(shè)施。
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