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英特爾新先進制程將至:18A-PT 工藝官宣,14A 節(jié)點即將推出

2025/4/30 0:15:38 來源:IT之家 作者:汪淼 責編:汪淼

IT之家 4 月 30 日消息,英特爾新任 CEO 陳立武今日在美國加州圣何塞舉行的 Intel Foundry Direct Connect 2025 活動中亮相,概述了公司在晶圓廠代工項目上的進展。

陳立武宣布,公司現(xiàn)在正在與即將推出的 14A 工藝節(jié)點(1.4nm 等效)的主要客戶進行接觸,這是 18A 工藝節(jié)點的后續(xù)一代。

英特爾已有幾個客戶計劃流片 14A 測試芯片,這些芯片現(xiàn)在配備了公司增強版的背面電源傳輸技術,稱為 PowerDirect。

如果一切按計劃進行,14A 將成為行業(yè)首個采用 High-NA EUV 光刻技術的節(jié)點。臺積電的 A14 競爭對手節(jié)點預計將在 2028 年到來,但預計不會在生產中使用 High-NA 技術。

陳立武還透露,公司的關鍵 18A 節(jié)點現(xiàn)在處于風險生產階段,預計今年晚些時候將開始量產。

英特爾還透露其新的 18A-P(IT之家注:18A 節(jié)點的性能版本)現(xiàn)在正在晶圓廠中運行,早期晶圓也已投產。

此外,英特爾官宣正在開發(fā)新的 18A-PT 版本,該版本支持 Foveros Direct 3D,采用混合鍵合互連,使英特爾能夠在其最先進的領先節(jié)點上垂直堆疊晶圓。

Foveros Direct 3D 技術是一個關鍵的發(fā)展,因為它提供了一種競爭對手臺積電已在生產中使用的功能,最著名的是 AMD 的 3D V-Cache 產品。事實上,英特爾在關鍵互連密度測量方面的實現(xiàn)與臺積電的產品相匹配。

在成熟的節(jié)點方面,英特爾晶圓廠現(xiàn)在有了首個 16nm 量產晶圓,該公司現(xiàn)在也在與聯(lián)電合作開發(fā) 12nm 節(jié)點。

根據(jù)英特爾的官方路線圖,18A-P 將在 2026 年推出,18A-PT 要等到 2028 年。此外,14A 將在 2027 年到來,還會有 14A-E 工藝。

針對先進封裝需求,英特爾代工提供系統(tǒng)級集成服務,使用 Intel 14A 和 Intel 18A-P 制程節(jié)點,通過 Foveros Direct(3D 堆疊)和 EMIB(2.5D 橋接)技術實現(xiàn)連接。

英特爾還將向客戶提供新的先進封裝技術,包括面向未來高帶寬內存需求的 EMIB-T;在 Foveros 3D 先進封裝技術方面,F(xiàn)overos-R 和 Foveros-B 也將為客戶提供更多高效靈活的選擇。

制造方面,英特爾亞利桑那州的 Fab 52 晶圓廠成功“全流程運行”,標志著通過該設施加工了第一塊晶圓。英特爾 18A 的大規(guī)模生產將在俄勒岡州的英特爾工廠開始,而亞利桑那州的制造將在今年晚些時候擴大。

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