IT之家 4 月 30 日消息，英特爾并未在 2025 Intel Foundry Direct Connect（英特爾代工大會(huì)）上明確其 Intel 14A 先進(jìn)節(jié)點(diǎn)是否會(huì)引入 High NA EUV 光刻技術(shù)，不過(guò)代工部門高管納加?錢德拉塞卡蘭還是就相關(guān)議題發(fā)表了看法。

他表示，英特爾仍有在 14A 制程的 EUV 光刻步驟中僅使用傳統(tǒng) Low NA 或部分導(dǎo)入 High NA 的選項(xiàng)。而這兩種方案在設(shè)計(jì)規(guī)則上是兼容的，這意味著無(wú)論英特爾選擇哪條技術(shù)路徑，都不會(huì)對(duì)客戶造成影響。

英特爾已在其俄勒岡州研發(fā)晶圓廠安裝了第二套 ASML 提供的 High NA EUV 光刻系統(tǒng)，表現(xiàn)符合預(yù)期。英特爾的 High NA EUV 圖案化技術(shù)開(kāi)發(fā)正穩(wěn)步向量產(chǎn)邁進(jìn)，同時(shí)已掌握了 High NA EUV 在 18A、14A 級(jí)節(jié)點(diǎn)的數(shù)據(jù)。

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