IT之家 12 月 15 日消息，ASML 首席執(zhí)行官 Christophe Fouquet（克里斯托夫?富凱 / 傅恪禮）在公司總部接受彭博社專訪時(shí)稱，他預(yù)計(jì) High NA EUV 光刻機(jī)將于 2027~2028 年正式投入先進(jìn)制程的大規(guī)模量產(chǎn)作業(yè)中。

目前在導(dǎo)入新一代圖案化技術(shù)上最積極的是英特爾代工，其支持 High NA EUV 的 Intel 14A 節(jié)點(diǎn)將在 2027 年正式推出。

Fouquet 表示，High NA EUV 光刻機(jī)目前正由英特爾等客戶測(cè)試，結(jié)果顯示新設(shè)備的成像和分辨率表現(xiàn)良好，該企業(yè) 2026 年的任務(wù)之一是與客戶合作將設(shè)備的停機(jī)時(shí)間最小化。

Fouquet 還提到，ASML 對(duì)未來 10~15 年的大致技術(shù)路線已有一定的概念。該企業(yè)已啟動(dòng)下一代 Hyper NA EUV 的研究，為本世紀(jì) 30 年代的投運(yùn)打下基礎(chǔ)。

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