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內(nèi)部視頻首度曝光:探秘臺積電美國 Fab 21 工廠如何制造 4 納米芯片

2025/10/22 16:12:38 來源:IT之家 作者:故淵 責編:故淵

IT之家 10 月 22 日消息,臺積電官方 YouTube 賬號于 10 月 19 日發(fā)布視頻,罕見展示了其美國亞利桑那州 Fab 21 晶圓廠的內(nèi)部視頻,首次向公眾展示了這座全球最先進半導(dǎo)體工廠的運作細節(jié)。

視頻中最引人注目的特點之一,是被稱為“白銀高速公路”(Silver Highway)的高架軌道系統(tǒng)。該系統(tǒng)主要確保生產(chǎn)流程的順暢與高效,負責高速、精準地運輸裝有 12 英寸硅晶圓的 FOUP(前開式晶圓傳送盒)。

視頻還展示了黃色燈光下的潔凈室,這種特殊光照環(huán)境是為了保護涂覆在晶圓上的光刻膠層不受損害。IT之家附上相關(guān)視頻截圖如下:

在核心設(shè)備方面,視頻近距離展示了來自荷蘭阿斯麥(ASML)的 Twinscan NXE:3600D 極紫外光刻(EUV)機,是制造先進制程芯片不可或缺的工具。

它們能夠在硅晶圓上蝕刻出小至 13 納米的精細電路結(jié)構(gòu),其形成的晶體管比一根頭發(fā)絲還要小上 1 萬到 2 萬倍。正是憑借這些設(shè)備,F(xiàn)ab 21 工廠目前得以順利運營臺積電的 4 納米(N4)和 5 納米(N5)制程節(jié)點。

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