IT之家 4 月 7 日消息，韓媒 Sedaily 當(dāng)?shù)貢r間 6 日報道稱，三星電子已為平澤半導(dǎo)體生產(chǎn)基地 P5 晶圓廠集群的首個階段 PH1 訂購了 70 余臺光刻機(jī)，為該階段 2027 年的投運(yùn)做好準(zhǔn)備。

平澤 P5 PH1 所需的這些光刻機(jī)來自 ASML 和佳能，其中約 20 臺為 ASML 的 EUV 曝光系統(tǒng)。P5 PH1 將用于 1c nm 制程 DRAM 生產(chǎn)，將同時制造通用內(nèi)存和 HBM。

三星電子預(yù)計將從 2027Q2 開始為平澤 P5 PH1 安裝圖案化設(shè)備，屆時該階段的潔凈室施工也將完成，有望在 2027 年內(nèi)對產(chǎn)能帶來有意義的貢獻(xiàn)，滿足英偉達(dá) "Rubin" 與其它 AI XPU 的需求，紓解當(dāng)前 DRAM 市場的供應(yīng)緊張態(tài)勢。

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